磁控溅射工艺主要用于制作微型器件的（）。

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【单选题】【消耗次数：1】

① A.二氧化硅层

② B.氮化硅层

③ C.光刻胶层

④ D.金属层

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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① 正确

② 错误

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