所设计MEMS器件版图上布置有对准标记用于加工时多层掩膜版间的对正。 - 答案查看网

答案查看网，轻松搜题/搜资源

登录

没有搜到到结果？点击这里求解答/求资源。

【判断题】

所设计MEMS器件版图上布置有对准标记用于加工时多层掩膜版间的对正。

① 正确

② 错误

查看答案解析

【单选题】

MEMS工艺中将掩膜版图形转移到硅晶元上的工艺是（）。

① A.光刻

② B.刻蚀

③ C.溅射

④ D.键合

查看答案解析

【判断题】

绘制的掩膜版阳版图形中有图形的位置是透光的。

① 正确

② 错误

查看答案解析

【判断题】

当前MEMS器件主要的基体材料为锗。

① 正确

② 错误

查看答案解析

【单选题】

选择被加工表面的设计基准作为加工时的定位基准，该原则称为（）

① 基准重合原则

② 基准统一原则

③ 自为基准原则

查看答案解析

【判断题】

正时齿轮装配时，必须使正时标记对准

① 正确

② 错误

查看答案解析

【单选题】

下列不属于多层砌体房屋承重墙布置方案有（）。

① 纵墙承重体系

② 横墙承重体系

③ 纵横墙组合承重体系

④ 框架梁承重体系

查看答案解析

【单选题】

管道布置图上的管件通常用（）。

① 数字表示

② 符号表示

③ 图形表示

④ 线段表示

查看答案解析

【单选题】

模板设计要求所设计的模板必须满足：

① 刚度要求

② 强度要求

③ 刚度和强度要求

④ 变形协调要求

查看答案解析

【单选题】

地下连续墙的钢筋笼在加工时，要根据钢筋笼重量、尺寸以及起吊方式和吊点布置，在钢筋笼内布置一定数量的：( )

① 吊架

② 埋件

③ 吊环

④ 纵向桁架

查看答案解析

首页 1 2 3 4 末页